Invarium公司主管并未宣称Dimension45/32这款工具能够免除使用浸入式微影系统的需求。据Invarium应用部门副总裁Franz Zach表示，针对45nm设计中包括扩散、多晶硅和接触层等4、5个最具关键性的前端层，一般都还是必须采用浸入式系统来实现。但是，Zach表示，还有5、6个金属布线层的图型合成则可采用浸入式微影或传统的干式工具等任一种方法完成。

       面对45nm制程节点时寥寥可数的几项可行方案，许多先进芯片制造商不得不转向浸入式微影技术。虽然浸入式微影使这些厂商得以实现新节点所需要的特征尺寸，但该方法却非尽如人意，例如仅就价格来看──据说一款浸入式微影工具售价高达4,000万美元。

        “这就是为什么我们认为该方案为大家提供了一个真正的契机，”Invarium的总裁兼执行长Roy Prasad表示。“浸入式微影的出现，提供了一个昂贵的选项，而且在缺陷方面该技术仍存在疑虑。此外，可能只有少数的工具可用。”

       根据Invarium表示，Dimension45/32是专为解决45nm和32nm节点时的图形化挑战而开发。该工具可协助微影和光罩合成团队选择并最佳化曝光策略和全芯片光罩布局合成的最佳组合(有时还需重新定位)，以便在硅晶上得到期望的后蚀刻结果。该公司并介绍，借助将分辨率增强技术(RET)特性、光照和极化技术适切地结合在一起，Dimension45/32可利用干式微影制程，而为所有关键性的布线层提供因应制程变异所需的较大制程窗口与充份的稳定性。

       Dimension45/32内建DimensionPPC的所有功能及其它几项专为45和32nm节点设计的其它功能。Invarium公司表示，DimensionPPC是Invarium的光学近似修正(OPC)和RET建置工具的旗舰产品。这些功能包括：制程设定最佳化、可印性(printability)分析、动态重新定位、增强的蚀刻模型、增强的制程窗最佳化、基于模型的次分辨率辅助特性合成以及良率的最佳化等。

       此外，Dimension45/32的其它功能还包括稳定性/灵敏度分析、剂量容忍度(dose-latitude)和聚焦容忍度(focus-latitude)最大化、光罩效应补偿和关键布线层的图形化。

       据Invarium介绍，Dimension45/32工具在布局时并不执行RET/OPC，而这也是其可印性分析工具与常见的‘热点’分析工具不同之处。Prasad表示，该工具采用的作法是在非常基础的层面上对布局的可印性进行分析。“一旦布局完成后，在RET/OPC执行之前，你必须了解基础面的问题，如：‘该布局的可印性为何？’”他表示，即使通过了设计规则校验，还是有许多图形无法被精确刻印出来。

       该公司并表示，Dimension45/32建置了辅助与‘明确辅助’的严格特性，可取代以规则为基础的布局。该工具的最大剂量容忍度特性可最佳化布局，以便使图形在各种条件下都能够维持。另外，动态自动重新定位特性可在微影修正过程中重新定位特性，以改善良率。

图：透过将光照剂量变异的容忍度予以最大化，Invarium的工具可对布局进行最佳化

       Prasad承认此时就要积极地以32nm节点为目标为时尚早。“对45nm节点来说，它是一项实实在在的方案，而且能使我们为未来的32nm提供更多功能。”

       除了提供新工具之外，Invarium还为了该工具而修正其业务模式。该公司现正提供多项服务，Invarium团队目前正与一家客户在‘采用广泛的弹性化布署选项”原则下，共同开发一款最佳化的图形化合成解决方案与微影设置，Prasad介绍。他接着说，该服务可根据客户喜好进行定制，直至采用‘完全外包’的图形化服务，与光罩公司没什么两样。 Invarium表示，目前Dimension45/32工具正针对北美客户进行验证的工作，不久位于亚洲的第二个客户也即将开始验证作业。成立于2003年的Invarium公司在今年二月推出DimensionPPC而一鸣惊人以前，一直都很低调。